800纳米制程,又称0.8微米制程,是半导体制造制程的一个水平,大约于1989年至1990年左右达成。[1][2] 这个是由当时的领先半导体公司如英特尔和IBM所完成。
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800纳米制程,又称0.8微米制程,是半导体制造制程的一个水平,大约于1989年至1990年左右达成。[1][2] 这个是由当时的领先半导体公司如英特尔和IBM所完成。